第五章 第五章 薄膜淀积工艺 薄膜淀积工艺 （上） （上）薄膜淀积（ 薄膜淀积（ Thin Film Deposition Thin Film Deposition ） ） 工艺 工艺 概述 概述 真空技术与等离子体简介 真空技术与等离子体简介 ( (第 第10 10章 章) ) 化学气相淀积工艺 化学气相淀积工艺 ( (第 第13 13章 章) ) 物理气相淀积工艺 物理气相淀积工艺 ( (第 第12 12章 章) ) 小结 小结 参考资料： 参考资料： 微电子制造科学原理与工程技术 微电子制造科学原理与工程技术第 第10 10、 、12 12、 、13 13章 章 （电子讲稿中出现的图号是该书中的图号） （电子讲稿中出现的图号是该书中的图号）一、概述 一、概述 薄膜淀积工艺是 薄膜淀积工艺是IC IC制造中的重要组成部分：在硅表 制造中的重要组成部分：在硅表 面以上的器件结构层绝大部分是由 面以上的器件结构层绝大部分是由淀积工艺 淀积工艺形成的。 形成的。 1 1 、薄膜淀积工艺的 、薄膜淀积工艺的 应用 应用2 2 、薄膜淀积工艺一般可分为两类： 、薄膜淀积工艺一般可分为两类：
