1、機器利用講習会超微細光学素子作大阪府立産業技術総合研究所開発支援（ 1日目）電子描画装置回折格子作製実習本日予定1. 簡単電子描画装置及本日行作業説明2. 石英基板塗布 EB装置導入3. 昼休（真空引待）4. EB装置光学系調整描画開始5. 変換作業説明（ EB描画中、省略場合）6. 現像作業7. 作製素子 SEM観察8. 青字内作業電子描画装置 JBX-5000SI電子線源 LaB6加速電圧 25KV or 50KV試料 最小径 8nm精度 60nm/40nm重合精度 60nm/40nm描画方式 日本電子株式会社製本日作製素子基板： 1角（ 25mm25mm）石英：NEB 22A2： 200
2、nm&200nm line&space5mm200nm L&S 200周期5C/cm2 9 C/cm2 20m80m種類選択型型名称 P/N 特徴ZEP520 高解像度 、低感度、安定ZEP7000 低解像度、 高感度 、安定NEB22 高解像度 、 高感度 、不安定名称 P/N 特徴OEBR 低感度、安定、 実績豊富ZEP2000 高感度、安定、 厚塗可能型型現像EB露光現像EB露光 実際（基板洗浄済）OAP塗布電子線描画現像PEB塗布乾燥水洗完成微細加工準備 選択基板洗浄 塗布 必要塗布EB装置調整 EB描画 現像必要 性能評価描画時間計算（ j01）目的所定作成必要。種類、今回形式作成 j01用。作成、 EB装置理解形変換必要。今回用 j01変換j01、x01、GDS j51convpchk6pread作成 EB理解形式変換必要。時間作業行。
