PVD涂层原理及应用介绍目录 1、PVD涂层原理 2、各种涂层特点及性能参数 3、涂层选择和应用 4、经验小结PVD涂层原理 靶材发射 1、引弧针瞬间高温高能 2、靶材原子的电子得到能量逸出 原子被电离为正离子 3、正离子在靶材上方形成离子云 与阴极的靶材形成电场 4、电场场致发射，靶材原子不断 电离发射 5、高能正离子高速进入电场PVD涂层原理 靶材发射PVD涂层原理 电弧斑 弧斑产生过程PVD涂层原理 涂层沉积过程 工件 工件上加 有200V 偏压 弧光放电逸出的金属离子带 有初始能量，在偏压形成的电场 中得到很大的加速，被加速的离 子打到工件上形成涂层PVD涂层原理 涂层沉积过程PVD涂层原理 涂层与基材的结合 1 、镶嵌 2 、离子间的相互作用力（范 德华力） 3 、化学键 图1 图2 图3 主要是以下三种形式共同作用，化学键是主要结合 方式涂层特点及性能参数 涂层类型 涂层硬度 耐热温度 摩擦系数 涂层厚度 颜色 适用范围 特点 TiN HV2300 600 0.6 2-3um 金黄色 丝锥、刀片、滚刀，塑胶、成型模具中低速加工较软材料 TiCN HV2500 500 0.3
