真空鍍膜技朮講義 工程師真空鍍膜技術教育訓練( 工程師) 蒸鍍(Evaporation) 塑膠外觀金屬化製程簡介一.Film Deposition 3 Evaporation Material Substrate Heater Vacuum chamber Cloud薄膜沈積(Thin Film Deposition) 在機械工業、電子工業或半導體工業領域，為了 對所使用的材料賦與某種特性在材料表面上以各 種方法形成被膜（一層薄膜），而加以使用，假 如此被膜經由原子層的過程所形成時，一般將此 等薄膜沈積稱為蒸鍍（蒸著）處理。 採用蒸鍍處理時，以原子或分子的層次控制蒸鍍 粒子使其形成被膜，因此可以得到以熱平衡狀態 無法得到的具有特殊構造及功能的被膜。 薄膜沈積的兩種常見的製程 物理氣相沈積- PVD （Physical Vapor Deposition ） 化學氣相沈積CVD （Chemical Vapor Deposition ）CVD 薄膜沈積機制的說明圖 物理氣相沈積-PVD （Physical Vapor Deposition ） PVD 顧名思義是以物理機制來進行薄膜堆 積而不
