半导体集成电路工艺-复习共23页

1、精选优质文档倾情为你奉上 半导体基本知识和 半导体器件二极管三极管场效应管集成运放 一选择题： 1PN结外加正向电压时，其空间电荷区 。
A.不变 B.变宽 C.变窄 D.无法确定 2PN结外反正向电压时，其空间电荷区 。
A.不变 B.变。

2、精选优质文档倾情为你奉上 中国半导体行业协会陈贤秘书长在2011集成电路设计年会开幕式上的致辞 各位领导各位同仁，女士们，先生们： 大家上午好。
首先我代表中国半导体行业协会对各位领导国内外嘉宾各位同仁参加在西安举办的2011中国半导体行业协。

3、精选优质文档倾情为你奉上 硅集成电路工艺基础 绪论： 单项工艺的分类： 1 图形转换：光刻刻蚀 2 掺杂：扩散离子注入 3 制膜：氧化化学气相淀积物理气相淀积 第2章 氧化 SiO2的作用： 1在MOS电路中作为MOS器件的绝缘栅介质，作为。

4、精选优质文档倾情为你奉上 芯片集成电路半导体产业链的全面梳理 2020.05 集成电路作为半导体产业的核心，市场份额达83，由于其技术复杂性，产业结构高度专业化。
随着产业规模的迅速扩张，产业竞争加剧，分工模式进一步细化。
目前市场产业链为I。

5、复习大纲 14章： 1 双极集成电路工艺的隔离方法； 2 隐埋层杂质的选择原则； 3 外延层厚度包括哪几个部分，公式里的四项分别指什么 4 双极集成电路工艺中的七次光刻和四次扩散分别指什么 5 双极集成电路工艺中的双极晶体管的四层三结结构 。

6、第一次作业： 1，集成时代以什么来划分列出每个时代的时间段及大致的集成规模。
答： 类 别 时 间 数字集成电路 模拟集成电路 MOS IC 双极IC SSI 1960s前期 MSI 1960s1970s 100500 30100 LSI 。

7、第一次作业： 1，集成时代以什么来划分列出每个时代的时间段及大致的集成规模。
答： 类 别 时 间 数字集成电路 模拟集成电路 MOS IC 双极IC SSI 1960s前期 MSI 1960s1970s 100500 30100 LSI 。