气相沉积技术1

1、 GCMS基本原理 GCMS仪 GCMS应用质谱分析是一种测量离子荷质比电荷质量比的分析方 法，其基本原理 是使试样中各组分在离子源中发生电离， 生成不同荷质比的带正电荷的离子，经加速电场的作用， 形成离子束，进入质量分析器。在质量分析器中。

2、气相色谱分析原理与技术,化学五班 李纪军 03081146,气相色谱分析原理技术应用,引言 “ 气相色谱分析”是重要的近代分析手段之一由于它具有分离效能高，分析速度快，定量结果准，易于自动化等特点；且当其与质谱，计算机结合进行色质联用分析时，又能对复杂的多组分混合物进行定性、定量分析，因此日益广泛地应用于石油化工、医药、生化、环境科学等各个领域，成为工农业生产、科研、教学等部门不可缺少的重要分离、分析工具。,色谱法（chromatography）亦称色层法、层析法，是一种分离技术，当其应用于分析化学领域，并与适当的检测手段相。

3、常熟理工学院光伏科技学院专业实验室设备招标文件目 录第一章 招标通告第二章 技术规范及要求第一节 总要求第二节 技术规范及要求第三章 投标人须知第一节 总体说明第二节 编制投标文件第三节 投标保证金第四节 投标文件的递交第五节 开标、评标附录：一、投标书格式二、投标价格表格式三、设备及其参数第一章 招标通告1. 常熟理工学院现对光伏科技学院专业实验室实验设备所包含的货物及服务进行竞争招标，邀请具备提供方案、设备、安装等资质和能力的制造商或经销商前来投标。2. 招标货物名称、数量及主要技术规格详见本招标文件附录三。。

4、1,气相色谱在食品污染物中的应用胡贵祥南昌CDC,2,气相色谱在食品污染物中的应用,1、分离系统,色谱柱,填充柱（2-6mm直径，1-6m长）毛细管柱（0.1-0.5mm直径, 几十米长）,packed column,capillary column,3,气相色谱在食品污染物中的应用,填充柱和毛细管柱,分离系统,4,气相色谱在食品污染物中的应用,（1）固体固定相：固体吸附剂，包括活性碳、硅胶、Al2O3、分子筛等；用于H2、O2、N2、CO、CO2、C1-C4的分离；,固定相,固体固定相：固体吸附剂液体固定相：由担体和固定液组成,分离系统,5,（2）液体固定相,固定液的选择原则：相似相容,气相色。

5、化学气相沉积CVDHong Xiao, Ph. D. 1 www2.austin.cc.tx.usHongXiaoBook.htm化学气相沉积CVD 概念 化学气相沉积Chemical Vapor Deposition 气体或蒸气在晶圆表面。

6、1 第四章 薄膜的化学气相沉积 Chemicalvapordeposition2 第一节 化学气相沉积反应的类型 第二节 化学气相沉积过程的热力学 第三节 气体的输运特性 第四节 化学气相沉积装置 第五节 SolGel工艺技术 3 简 介 。

7、化学气相沉积CVDHong Xiao, Ph. D. 1 www2.austin.cc.tx.usHongXiaoBook.htm化学气相沉积CVD 概念 化学气相沉积Chemical Vapor Deposition 气体或蒸气在晶圆表面。

8、第四章 化学气相沉积李斌斌n 4.1 化学气相沉积n 4.2 硅气相外延生长4.1 化学气相沉积n 化学气相沉积CVD 是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。n 从理论上来说。

9、8.3 化学气相沉积（CVD）,化学气相沉积 Chemical Vapor Deposition，缩写为：CVD；在一个加热的基片或物体表面上，通过一种或几种气态元素或化合物产生的化学反应，而形成不挥发的固态膜层或材料的过程；分为普通CVD、等离子体化学气相沉积（PECVD）和光CVD（PCVD）等。,一、普通CVD,1. 基本原理 利用气体物质在固体表面进行化学反应，从而在该固体表面生成固体沉积物的一种技术，根据化学反应的形式，化学气相沉积可分为以下两类： （1）热分解反应沉积利用化合物加热分解，在基体（基片或衬底）表面得到固态膜层的技术。常用于制备金属。

10、 1第4 章 化学气相沉积4.1 化学气相沉积 合成方法发 展 化学气相沉积 乃是通过 化学反应 的方式，利用加热 等离子激励或光辐 射等各种能源，在反应 器内使气态或蒸汽状态 的化学物质 在气相或气固界面上经 化学反应 形成固态 沉积 物。

11、2020/11/6,第12章 气相沉积技术,表面工程,2020/11/6,是一类在基体上形成功能膜层的技术，也称作干镀。,气相沉积,按照膜层形成机理可分为：,化学气相沉积,物理气相沉积,真空蒸镀,溅射镀膜,离子镀膜,2020/11/6,第12章 气相沉积技术,12.1真空蒸镀基本原理、装置及工艺 12.2溅射镀膜基本原理、装置及工艺 12.3离子镀膜基本原理、装置及工艺 12.4化学气。

12、2化学气相沉积法CVD3溶胶凝胶法定义：利用气相反应，在高温等离子或激光辅助等条件下控制反应气压气流速率基片材料温度等因素，从而控制纳米微粒薄膜的成核生长过程；或者通过薄膜后处理，控制非晶薄膜的晶化过程，从而获得纳米结构的薄膜材料。分类：常。

13、第五章 气相沉积技术,气相沉积技术是通过气相材料或使材料气化后沉积于固体材料或制品(基片)表面并形成薄膜，从而使基片获得特殊表面性能的一种新技术。近40年来，气相沉积技术发展迅速，已在现代工业中得到广泛应用并展示了更为广阔的发展和应用前景。,目 录,5.1 物理气相沉积 5.2 化学气相沉积技术 5.3 气相沉积技术制备薄膜 思考题,5.1 物理气相沉积,5.1.1 真空蒸发沉积 5.1.2 电阻。

14、 上海交通大学 化学气相沉积CVDSEIEE SEIEE 化学气相沉积的基本原理 化学气相沉积的特点 CVD方法简介 低压化学气相沉积LPCVD 等离子体化学气相沉积 其他CVD方法SEIEE SEIEE 概念 化学气相沉积CVD是一种化学。

15、中国石油大学华东 气 相 沉 积 技 术专业班级：材料物理0813开课单位：材料物理系任课教师：韩 治 德上次课主要内容回顾 高能束表面改性特点11 五种激光表面处理工艺11 三种高能束表面改性的特点比较 离子注入概念11 表面扩渗11表面。

16、 1第七章 气相沉积技术 27.1 概述 目前，气相沉积硬质镀层TiN已被广泛用于提高耐磨工模具的寿命，具有很大的经济效益和广阔的发展前景。 然而，沉积理论落后于沉积技术的现象已在很大程度上影响了此项技术的进一步发展，例如镀层质量的测试及评。

17、第五章 第五章 化学气相沉积 化学气相沉积 CVD CVD Chemical Vapor Deposition Chemical Vapor Deposition 化学气相沉积的基本原理 化学气相沉积的特点 CVD方法简介 低压化学气相沉积。

18、气 相 沉 积 技 术 vapor deposition technology Date: 2010.10.13 2 气 相 沉 积 技 术 气相沉积技术概述 物理气相沉积 化学气相沉积 小结 四 一 二 三3 一气相沉积技术概述 气相沉积。

19、第十章 气相沉积技术气相沉积技术n 是通过气相材料或使材料气化后沉积于基片表面并形成薄膜， 从而使基片获得特殊的表面性能的一种新技术。n 薄膜是用特殊方法获得的，依靠基体支撑并具有与基体不同的结构和性能的二维材料。3 by Jing Lia。

20、第十章 气相沉积技术,气相沉积技术,是通过气相材料或使材料气化后沉积于基片表面并形成薄膜， 从而使基片获得特殊的表面性能的一种新技术。薄膜是用特殊方法获得的，依靠基体支撑并具有与基体不同的结构和性能的二维材料。,3 by Jing Liang,School of Metallurgy and Materials,薄膜材料的主要特征,厚度:二维材料，一般具有亚微米至微米级的厚度，扩展到纳米和近毫米级的金刚石膜。基体支撑特殊的结构和性能特殊的形成方式,4 by Jing Liang,薄膜材料制备方法,液相法气相法,物理气相沉积,PVD是指在真空条件下，采用物理方法将固态的镀料转。