1、制备薄膜样品的基本要求是什么？具体工艺过程如何？双喷减薄与离子减薄各适用于制备什么样品？答：基本要求： 薄膜样品的组织结构必须和大块样品相同。 样品相对于电子束而言，必须有足够多的“透明度”。 薄膜样品应有一定的强度和刚度，在制备、夹持和操作的过程中，在一定的机械力的作用下不会引起变形或损坏。 在样品制备过程中不允许表面产生氧化和腐蚀。工艺过程： 从实物或大块的试样上切割厚度为0.30.5nm厚的薄片。 样品薄片的预减薄（机械法或化学法） 最终减薄，达到电镜所需的透明度，包括双喷电解减薄和离子减薄，目前效率最高和操作最简单的方法是双喷电解减薄。双喷减薄适用制备金属与部分合金样品。 不易于腐蚀的裂纹端试样 非粉末冶金试样 组织中各相电解性能相差不大的材料 不易于脆断、不能清洗的试样离子减薄适用制备 不导电的陶瓷样品 要求质量高的金属样品 不宜双喷电解的金属与合金样品2、什么是衍射衬度？它与质厚衬度有什么区别？答：由于样品中不同位相的衍射条件不同而造成的衬度差别叫衍射衬度。
